商品名稱(chēng):COMPACT Eco X射線熒光鍍層測(cè)厚儀
COMPACT Eco是利用X射線熒光進(jìn)行鍍層厚度測(cè)量和材料分析。能夠快速無(wú)損分析以確保您的持續(xù)生產(chǎn)和產(chǎn)品質(zhì)量??梢栽跓o(wú)需制樣的情況下提供易于操作、快速和無(wú)損的分析。它能分析固體和液體。能夠解決微小物品的微米納米的厚度測(cè)量,不再因聚焦影響精度的傻瓜模式,原廠預(yù)做曲線,無(wú)需大量購(gòu)買(mǎi)校正片。
技術(shù)規(guī)格
◆ 測(cè)定元素范圍:Ti(22) U(92)
◆ 鍍層和成份分析:鍍層:最多同時(shí)測(cè)定5層(4層鍍層+基體材料)
◆ 成份:最多同時(shí)測(cè)定20種元素
◆ X射線激發(fā):50kV、1.2mA (60W)高壓發(fā)生器,微聚焦W靶X射線管
◆ 探測(cè)器:封氣正比計(jì)數(shù)器
◆ 準(zhǔn)直器:任選:φ0.3mm或者φ0.5mm準(zhǔn)直器
◆ 數(shù)字脈沖處理器:2048通道、數(shù)字式多道分析器
◆ 數(shù)據(jù)處理系統(tǒng):Intel Pentium G2030、2G RAM、500G硬盤(pán)(配置相當(dāng)或者更高),19英寸TFT彩顯,Windows 7 32bit操作系統(tǒng)
◆ 相機(jī):彩色視頻系統(tǒng),20倍放大倍數(shù),圖像十字線,顯示標(biāo)尺和X射線束尺寸,被測(cè)樣品圖像實(shí)時(shí)顯示功能
◆ 電源要求:110V、230V,60Hz/50Hz
◆ 工作環(huán)境要求:10℃-40℃室溫,最高98%相當(dāng)濕度(無(wú)冷凝水),推薦在空調(diào)環(huán)境中使用
◆ 主機(jī)重量:41公斤(不包含計(jì)算機(jī)和顯示器等重量)
◆ 樣品臺(tái)規(guī)格:240mm x 240mm樣品臺(tái),程控Z軸移動(dòng)距離:60mm,樣品臺(tái)最大承重5公斤
◆ 最大樣品尺寸:380mm(W) x 370mm(D) x 100mm(H)
◆ 儀器外形尺寸:400mm(W) x 600mm(D) x 400mm(H)
COMPACT Eco優(yōu)勢(shì)
◆ 超高的性?xún)r(jià)比
◆ 操作簡(jiǎn)單
◆ 高質(zhì)量高可靠性的全日制24小時(shí)/7天操作
◆ 快速的服務(wù)響應(yīng)。
◆ 無(wú)損檢測(cè)只需幾秒鐘,為質(zhì)量保證和過(guò)程控制提供單層或多層分析,能進(jìn)行合金成分的定量分析,可用 于優(yōu)化電鍍液控制的金屬離子含量分析。
技術(shù)參數(shù)
◆ 高壓發(fā)生器: 50kV,最大電流1.2mA,程序控制升壓
◆ X射線管:微聚焦,優(yōu)質(zhì)射線管, W靶, 0.2毫米x 0.8毫米焦斑
◆ X射線功率:根據(jù)應(yīng)用優(yōu)化,最大50VA
◆ 單準(zhǔn)直器:直徑0.3毫米或直徑0.5毫米
◆ 樣品臺(tái):電動(dòng)升降, Z軸高限60毫米.
◆ 影象系統(tǒng):彩色影像系統(tǒng),視野范圍8X6毫米
◆ 圖象放大倍數(shù):光學(xué)放大20倍.
◆ 輻射安全性能:通過(guò)德國(guó)聯(lián)邦物理技術(shù)研究院測(cè)試,全面安全系統(tǒng)
◆ 腔室:高35厘米,寬40厘米,深60厘米.
◆ 樣品腔室:可用部分,高10厘米,寬38厘米,深37厘米.
◆ 供電電源:110伏/230伏60赫茲/50赫茲
◆ X-MasteR軟件:使用現(xiàn)代計(jì)算機(jī)技術(shù)在WINDOWS下操作軟件.
◆ u-MasteR軟件:用于鍍層厚度測(cè)量的評(píng)價(jià)模塊.
◆ Fun-MasteR軟件:使用基本參數(shù)法的校正模塊.
◆ Element-MasteR軟件:用于20種以上元素的無(wú)標(biāo)樣定性和定量分析.
◆ %-MasteR軟件:8種以上元素的精確定量材料分析和統(tǒng)計(jì)計(jì)算.
◆ Liquid-MasteR軟件:電鍍液分析.
◆ Data-MasteR:利于文件長(zhǎng)期歸檔的數(shù)據(jù)庫(kù)和統(tǒng)計(jì)處理軟件
◆ Report-MasteR軟件:用于客戶(hù)建立個(gè)性化報(bào)告的軟件模塊.
化繁就簡(jiǎn) 集成方案
售后無(wú)憂(yōu) 服務(wù)周到
品類(lèi)齊全 質(zhì)量?jī)?yōu)先
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