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TASL固體徑跡蝕刻系統

重粒子和中子的劑量測量

  • 類 別:
  • 固體徑跡蝕刻系統
  • 型 號:
  • TASL
  • 訂貨號:
  • TP0000466

商品名稱:TASL固體徑跡蝕刻系統

  • 貨號:TP0000466

簡介:

       TASL是一款全自動的、高性能的固體徑跡分析系統,可用來進行重粒子和中子的劑量測量。徑跡讀取和分析單元采用高性能的Nikon光學器件,3D機動控制系統,可快速/精確地批量分析探測器,整個測讀和分析過程由系統全自動完成。


特點:

◆  全自動批量分析探測器,讀出ID號

◆  全自動對焦、校正響應衰變

◆  本底低,低探測限可達5 kBq/m3,高探測限可達15 MBq/m3

◆  線性度好于3%

◆  具有自動分辨氡/釷的能力

◆  每個探頭讀出速度快,用戶可選擇讀出時間

◆  自動對焦,高性能成像技術,可區分蝕刻徑跡和本底

◆  可設置徑跡分析面積

◆  徑跡讀數自動轉換成劑量,結果保存在數據庫中,可導出至Excel表 


技術參數:

l  蝕刻單元:

◆  蝕刻溶液: 6.25M氫氧化鈉溶液

◆  氡蝕刻溫度: 98℃

◆  氡探頭蝕刻時間:1小時

◆  中子蝕刻溫度: 85℃

◆  中子探頭蝕刻時間:2.85小時 


l  分析單元:

◆  高性能的Nikon光學器件,3D機動控制系統

◆  一次可分析49個探測器,可定制測量片數量

◆  單個探頭分析時間:30-60s


l  氡探測器:

◆  材料:CR-39

◆   照射時間:3個月或更長

◆  本底:少于20個徑跡/cm-2

◆  不確定度:小于1Bq/m-3


l  中子探測器:

◆  材料:CR-39

◆  密度:1.30g/cm3

◆   精確度:±12.6%

◆  快中子能量范圍:200 keV - 15 MeV

◆  尺寸:厚度1mm,各矩形尺寸可定制